| 一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法 |
| 卢静
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| 2022-09-27
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| 专利权人 | 重庆电子工程职业学院
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 授权发明
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| 摘要 | 本发明公开了一种靶材安装结构、磁控溅射设备及其磁控溅射方法，解决了现有的靶材散热差、使用寿命短的技术问题。本发明包括靶材和背板，所述靶材安装在背板的一侧，其特征在于，所述背板内部设置有散热组件，所述散热组件包括冷却水管和射吸组件，所述冷却水管靠近靶材侧，所述射吸组件位于远离所述靶材，所述冷却水管与射吸组件连接。本发明具有散热效果好，靶材寿命长，冷却水不易掉入真空腔等优点。 |
| 申请日期 | 2021-01-16
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| 语种 | 中文
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| 法律状态 | 授权
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| 申请号 | CN202110058551.3
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| 公开（公告）号 | CN112899627B
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| IPC 分类号 | C23C14/35
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| 专利代理人 | 邓波
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| 代理机构 | 重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙)
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| CPC分类号 | C23C14/35
; C23C14/3407
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | https://ir.cqcet.edu.cn/handle/39TD4454/17517
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| 专题 | 重庆电子科技职业大学
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
卢静. 一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法[P]. 2022-09-27.
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文件名：
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CN112899627B-一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法.PDF
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格式：
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Adobe PDF
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文件名：
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CN112899627A-一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法.PDF
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格式：
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Adobe PDF
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